Substrate : SiO2
1. HMDS, 4000rpm
2. Photo AZ5214, 4000rpm, 90℃ 1min bake
3. Cr Mask -> 8 sec
4. MIF 500 -> 1min
5. DI Rinse
6. BOE, silox etching
7. DI Rinse ( > 1min)
8. Remove PR by Aceton (> 20min)
Etch rate : 100nm / min
| 번호 | 분류 | 제목 | 글쓴이 | 날짜 | 조회 수 |
|---|---|---|---|---|---|
| 공지 | 회사 목록 | 모아레 | 2011.02.07 | 49357 | |
| 공지 | 메모 | 연락처 목록 | 모아레 | 2010.08.05 | 24633 |
| 공지 | 메모 | 유용한 사이트 | 모아레 | 2010.02.25 | 35620 |
| 공지 | 메모 | 메모 정리 (미완) | 모아레 | 2009.10.30 | 21788 |
| 공지 | 메모 | 연구실 장비 목록 | 모아레 | 2009.09.30 | 28290 |
| 공지 | 메모 | 주문, 구입 리스트 | 모아레 | 2009.09.21 | 22223 |
| 공지 | 메모 | To do list, Short Memo | 모아레 | 2009.08.20 | 24650 |
| 52 | 기타 | [사람과 이야기] 방학을 잊은 교수들… "과학에 희망 있어요" 1 | 모아레 | 2010.01.03 | 11480 |
| 51 | 메모 | Vacuum Can Leak Problem | 모아레 | 2010.01.04 | 7589 |
| 50 | 자료 | BOE(Buffered oxide etch) | 모아레 | 2010.01.11 | 9582 |
| 49 | 자료 | Silox Vapox III | 모아레 | 2010.01.11 | 9203 |
| 48 | 자료 | E-Beam Lithography 자료 | 모아레 | 2010.01.13 | 7333 |
| » | 메모 | BOE, Silox 에칭 테스트 과정 | 모아레 | 2010.01.25 | 9182 |
| 46 | 메모 | 중전 Windows XP EN 시디키 | 모아레 | 2010.01.25 | 8334 |
| 45 | 논문 | Shuttle 관련 논문들 | 모아레 | 2010.01.25 | 7423 |
| 44 | 자료 | SEM specification | 모아레 | 2010.01.26 | 29305 |
| 43 | 자료 | 전자 부품 | 모아레 | 2010.01.26 | 8769 |
| 42 | 자료 | Coplanar Waveguide | 모아레 | 2010.01.31 | 8672 |
| 41 | 자료 | Device fabrication and measurement techniques | 모아레 | 2010.01.31 | 8235 |
| 40 | 자료 | Thermo-Electric Model of a VCSEL Die | 모아레 | 2010.01.31 | 6135 |
| 39 | 메모 | 반도체공동연구소(반공연) 공정접수 내용 | 모아레 | 2010.02.01 | 13743 |
| 38 | 메모 | Double Shuttle 제작 관련 | 모아레 | 2010.02.09 | 9394 |
| 37 | 메모 | 윈도우2003 프린터 공유 문제 해결 | 모아레 | 2010.02.10 | 7834 |
| 36 | 메모 | MEMS 관련 PDF 문서 | 모아레 | 2010.02.17 | 9231 |
| 35 | 메모 | 어디서 먼지들이 샘플에 다닥다닥붙는지 체크할것 | 모아레 | 2010.02.20 | 11547 |
| 34 | 메모 | Gordon Research Conference | 모아레 | 2010.02.21 | 9091 |
| 33 | 메모 | Gordon conference activity 적은 것 | 모아레 | 2010.02.22 | 9303 |