EL11, A4 5000rpm, 170℃ 5min
PC20
develop 40s
Ti 10nm, Au 50nm
Differences between JDH and me
- Using aluminum foil
- How to use pipet (after push upper(rubber) part, wait a 10~20sec)
EL11, A4 5000rpm, 170℃ 5min
PC20
develop 40s
Ti 10nm, Au 50nm
Differences between JDH and me
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4 | 메모 | 어디서 먼지들이 샘플에 다닥다닥붙는지 체크할것 | 모아레 | 2010.02.20 | 1771 |
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2 | 메모 | 연구실 서버를 위한 리눅스 관리 가이드 | 모아레 | 2009.11.10 | 2606 |
1 | 메모 | 반도체공동연구소(반공연) 공정접수 내용 | 모아레 | 2010.02.01 | 4091 |