구글 노트에 저장한 것
02 2056 1333 백수연 과장
소량판매 - 딜러 기린시약 박태일 02 514 7693
010 9257 4412
노트에 적은 것
Spin coater 사용 후 닦을 것!
E-beam litho시 beam current가 stable하면 쓸 것.(5분 이상 warm up)
연필 찍을 때 살짝만!
Sample 놓을 때 평평한 곳에 놓도록! 평평치 않으면 아세톤으로 닦아내어 평평하게 할 것.
SEM 쓸 때 memory 기능은 위치 기억하기 위한 것.
WD 4.5에서 패러데이 컵 잘 보이도록
Beam current가 커지거나 스테이지가 흔들리면 focus 바뀌니 조심. 바뀌게 되면 다시 direct stage control!
리쏘 작업 전 Run file 셋팅에서 magnification 1000으로 놓고 할 것. Magnification에 따라 리쏘조건 달라짐.
Microscope로 본 뒤 MIBK에 살짝. 빛이 sample에 영향줄 수 있음.
IPA로 클리닝한 후 말릴 때 sample 기울이고 서서히 말릴 것.
E-Gun evaporator 수정할 것
냉각수 잠글 때 DI generator 켜져있는지 확인.
E-beam rotation -> beam을 돌리는 것
stage 돌리려면 다른 버튼으로
FTP에 올린 것
ma-N 2400
www.microresist.de
090910
1. 크롬 올림
2. 아세톤으로 lift off(10분 이상, 끝난 후 아세톤 -> IPA -> 질소건 )
3. 비커 준비. DI로 깨끗이
4. 시트릭 에시드 : H2O2 = 5: 1 비율로 섞음(스티어러로 5분 이상)
5. 샘플 넣음. 용액에 넣은 후 13분 후 꺼냄. 스티어러 4로 맞춤.
6. DI 준비. 꺼낸 후 DI에 넣어둠.
7. IPA 담은 동그란 ???에 샘플 넣어서 마이크로스코프로 확인
8. 홀더 준비. 아세톤으로 소닉쳐야 하나 그냥 질소건으로 간단히 깨끗이 함.
9. 홀더 분리하여 IPA에 담음.
10. 홀더 안에 샘플 넣음.
11. 홀더를 CPD에 넣기 전에 CPD에 IPA 채워넣음.(작은 구멍 아래까지)
12. 홀더를 CPD에 넣음.
이미지리버설
1. 5214 코팅 (4000rpm)
2. 90도 1분
3. 포토(마스크 끼워넣은 후 샘플 집어넣음. 3초 6초 10초)
4. 120도 5분
5. 마스크 없이 23초
6. MIF500 1분 DI 10초
Note
1. 캐톤테잎 붙을때 테이프 안말리도록 글라스에 두겹붙인 후 작업
2. Evaporator쓸 때 Auto vent전 Auto pump 끄고 밸브 닫히는 소리 들린 후 Auto vent 누른다.
(빨간색인 상태가 열린 것) 이는 갑자기 질소가스가 들어가서 evaporator에 영향 주는 것 방지하기 위함.
090929
Evaporator 매뉴얼 추가할 것
1. Manual 누른 후 cryo pump valve 여는 것 빠르게
2. base pressure -> metal 증착 전
pressure -> 증착 중에 기록
RIE
venting 때 Gas2, 아래쪽 N2 위쪽 N2 밸브 염
샘플 넣은 후 닫고 로타리 펌프.
MFC = (M??? Flow Control) voltage로 열고 닫고. 5V일때 완전히 valve 완전히 염.
CNT나 그라핀은 O2와 반응시켜 날림.
끌 때 위쪽 밸브, 수도관 잠겨있는지 확인
포토하기전 미리 켜둠
펌프전원 -> rdy글자 뜬후 start -> 숫자로 바뀌면 작업
091001
Develop 할때 참고
developer 온도 높을수록 빠르게 됨. 하지만 정확히 안나옴.
developer 오래될수록 edge부분이 뭉툭하게 됨.
MIBK : IPA = 1 : 2로 하면 또 바뀜.
Substrage가 SiO2, Si, GaAs일때 도 다름.
develop한 후 패턴확인하려면 evaporation 한 후 SEM.
091006
디벨럽할때 아세톤 충분히 넣고 파라필름!
Evaporator 끄고 수도밸브 잠그기전 DI generator 켜져있는지 확인.
켜져 있는 경우 수도밸브 잠그지말 것
091009
MIBK IPA 용액 만들때 조심
MIBK 독하므로 되도록 냄새 안맡고
메스실린더로 적당히 양 재서 섞으면 됨
HCl은 그냥 DI로 헹굼
N-Methyl-2-Pyrrolidone (NMP)
http://www.lyondellbasell.com/techlit/techlit/2313.pdf
Photoresist Removal
http://www.microchemicals.eu/technical_information/photoresist_removal.pdf
100401
Kapton Tape(캡톤 테이프)
http://www.4science.net/main.asp??=item/item_view&item_idx=5385
